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真空鍍膜機使用步驟
電控柜操作1.開水泵、氣源。2.開總電源。3.開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4.開機械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、并啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需2
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真空鍍膜機適用范圍
1．建筑五金：衛浴五金（如水龍頭）．門鎖．門拉手．衛浴、五金合葉、家具等。2．制表業：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品。3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．4．大型工件：汽車輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等。5、不銹鋼管
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真空鍍膜機化學成分
薄膜均勻性概念1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒
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真空鍍膜機操作程序
真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設備說明書和設備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標注說明。①檢查真空鍍膜機各操作控制開關是否在"關"位置。②打開總電源開關，設備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘
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光學鍍膜設備幾種常見的外觀件鍍膜
光學鍍膜設備幾種常見的外觀件鍍膜當今生活中，已經有越來越多的外觀部件在使用真空鍍膜技術優化產品性能。這種通過真空鍍膜技術制備的薄膜按用途分類：增透膜、減反膜、截止膜、顏色膜、防水膜、金屬膜、高反膜等。本文將重點分析一下幾種常見的薄膜。1.何
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PVD真空鍍膜設備工藝介紹
PVD真空鍍膜設備鍍膜技術是在真空腔體中將鈦、金、銀、石墨、水晶等金屬或非金屬、化合物、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術，在基材上沉積一層薄薄膜層表面處理過程。與傳統化學鍍膜方法相比，pvd鍍膜機有很多優點：
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磁控濺射鍍膜機為什么會出現靶中毒現象
眾所周知磁控濺射鍍膜機用的是磁控濺射靶材，那么磁控濺射鍍膜機靶材在鍍膜濺射的時候會出生靶中毒現象，出現靶中毒現狀，是大家都非常頭疼的事情，既浪費了靶材，同時也耽誤了生產時間，是非常讓人頭疼的事情。一般情況
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鍍膜設備維修水噴射泵的結構形式
A按噴射方式分類：1）連續噴射。工作液射流是連續的。目前大多數水噴射泵采用這種方式。2）旋流噴射。工作液射流是旋轉的，這樣可以增加液氣的接觸面積，并使射流較快的破碎分散成液滴，從而提高泵的效率。缺點是旋流發生器要消耗一部分能量。3）脈沖噴射
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電鍍設備常用的工藝槽
電鍍設備中都有一些大大小小的槽子，初次接觸的人大都會問，這些都是什么槽，有什么用?為此，我們幫您整理出了常見的幾種工藝槽子，希望對您能有所幫助。一、熱脫槽（除油槽）1、主要成分：脫脂劑2、作用：去除基材表面油脂及其他臟污。二、粗化槽1、主要
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濺射鍍膜機的鍍膜工藝主要受影響的幾個參數介紹
濺射鍍膜機真空鍍膜設備鍍膜工藝主要受哪幾個參數影響呢？磁控鍍膜機里面的工藝參數有很多很多，每個參數對磁控濺射系統來說都是非常重要的因素，因為一個參數未達標，都沒辦法完成所需要達到的要求，下面給大家介紹真空鍍膜設備幾個
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真空泵維修渦旋式水環真空泵現狀和發展
渦旋水環真空泵的研究始于20世紀80年代末期。1988年，日本東京大學的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉型油潤滑渦旋水環真空泵，與公轉型渦旋真空泵相比，該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優點。而渦旋泵與旋片泵相比，
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真空泵維修渦旋式水環真空泵現狀和發展
渦旋水環真空泵的研究始于20世紀80年代末期。1988年，日本東京大學的MorishitaE研制了抽速為200L/min的立式自轉型油潤滑渦旋水環真空泵，與公轉型渦旋真空泵相比，該泵的徑向間隙具有易于密封和控制的優點。而渦旋泵與旋片泵相比，
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